光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
最早的光刻技术出现于1822年，起初是法国人Joseph Nicephore niepce（涅普斯）试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕。他先将油纸放在一块玻璃片上，在上面涂满了一种在植物油中溶解的沥青，经过一段时间的暴晒之后，透光部分的沥青就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
这项发明出现的很早，将其使用于制造印刷电路板却已经是100多年后的故事了。
也就是二十世纪末。
随着发展，光刻机需要的光源波长，一降再降。
从二十世纪90年代开始，光刻机竞争的主战场成为了光源波长的竞争。
光源波长从365nm降低到了193nm，对应的制程也从800~250nm减小到130~65nm。
随着摩尔定律的推进，�
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